2016年2月5日付の日経産業新聞 「テクノトレンド」（8面）のコーナーで、非真空の新しい薄膜形成技術として「ミストデポジション法」が取り上げられ、弊社の取り組みが紹介されました。
コランダム構造酸化ガリウム（α-Ga2O3）を用いた超低オン抵抗SBDの研究成果がApplied Physics Express (APEX) に掲載されました。→ APEX掲載サイトしかも、大変光栄なことに、毎年ごくわ […]
共同研究先の東京大学・甘蔗准教授は、高精度カメラでマイクロサイズのミスト(液滴)を高温加熱した際の挙動を撮影することに、世界で初めて成功しました。関連ファイル：関連プレスリリース本発表によると、マイクロサイズのミストは、 […]
2015年12月28日（火）、日経BP社が運営する「日経テクノロジーオンライン」の『パワー半導体この1年――買収や協業が相次ぐ、SiCやGaNも浸透』の記事の中で、酸化ガリウムパワー半導体に取り組む企業として弊社が紹介さ […]
2015年12月16日（水）から12月18日（金）までの3日間、東京ビックサイトにて開催されます「SEMICON Japan 2015」（INNOVATION VILLAGE）に出展いたします。また、12月17日（木）に […]
2015年11月21日(土)、「平成27年度日本材料学会 半導体エレクトロニクス部門＆ナノ材料部門委員会 合同研究会 」（会場：京都大学 桂キャンパス）にて、当社・織田が招待講演を行います。 演題 : 「酸化ガリウム […]
FLOSFIAでは、省エネ化のキー材料の一つと考えられている酸化ガリウム（Ga2O3）を用い、世界最小（FLOSFIA調べ）のオン抵抗である0.1mΩcm2のショットキーバリアダイオード（以下、SBD）を実現しました。し […]
次世代パワーデバイスの開発販売を手掛ける株式会社FLOSFIA（本社：京都府京都市、代表取締役社長：人羅俊実）は、株式会社東京大学エッジキャピタル、ニッセイ・キャピタル株式会社が運用するファンド、ブラザー工業株式会社等を […]
2015年11月5日(木)、「第1回酸化ガリウムおよび関連材料に関する国際ワークショップ(IWGO 2015)」(International Workshop on Gallium Oxide andRelated Ma […]
朝日新聞出版発行の『AERA』（2015年8月24日号）で、「日本を動かすベンチャー100」の1社として弊社が掲載されました。