ご挨拶
私たちは、グリーン且つクリーンな技術を用いてイノベーションを誘発し、社会に貢献する製品をつくりだしてまいります。
イノベーションの歴史をたどると、新しい材料の登場が背景にあることはしばしばです。青色発光LEDでは窒化ガリウム、コンピューターではシリコン、超高燃費航空機ではカーボン。 新しい材料の事業化に成功した企業は高収益企業となり、業界のリーディングカンパニーになってきました。日本の大学は新しい材料を作ることを得意にしており、本当に多くの分野で世界最高の結果を出しています。しかしながら、その産業化のタイミングで、海外企業との競争に負けてしまう事例が頻発しています。FLOSFIAでは、大学が生み出した新規材料の応用開発に取り組み、誰よりも早く事業化することにチャレンジしています。
もっとも力を入れているのが「水」から「半導体」を作るイノベーションです。ミストドライ®法で作製したGaO®（コランダム構造酸化ガリウム、α-Ga2O3）のパワーデバイス応用により、電源・車載・動力領域でのイノベーションの実現に貢献します。従来、ミストドライ®法で作製した膜は半導体分野には応用が困難と考えられてきましたが、これまでに結晶の高品質化（不純物濃度の低減）や大口径化（4インチ化）、デバイス実証試作（600V以上の耐圧を有する超低オン抵抗SBD試作）に成功してまいりました。これらを実現するために、半導体に適したミストドライ®法を開発し、この新規ミストドライ®法をMISTEPITAXY®法と名付けました。
他企業様・大学様との連携を通じ、さらに幅広い領域でのイノベーションにも貢献します。GaO®デバイスを用いた高周波領域、各種酸化物材料を用いた光デバイス領域でのイノベーションにも貢献します。 ミストドライ®法の新規応用展開では、金属酸化物のみならず金属めっき・有機膜の成膜やこれらの材料を組み合わせたハイブリッド材料合成を通じ、電子材料・電池材料・コーティング・加飾・めっきなどへの展開を目指します。
株式会社FLOSFIA
代表取締役社長 人羅俊実
