日経産業新聞（2016年2月5日）に掲載されました

2016年2月5日付の日経産業新聞 「テクノトレンド」（8面）のコーナーで、非真空の新しい薄膜形成技術として「ミストデポジション法」が取り上げられ、弊社の取り組みが紹介されました。