日経BP社運営の「日経テクノロジーオンライン」、アイティメディア社運営の「EE Times Japan」に、FLOSFIAが先日発表いたしましたミストCVD技術を応用した非真空ドライめっき技術の開発成果が紹介されました。
■日経テクノロジーオンラインの記事はこちら：『数μmの微細構造にめっき、京大発ベンチャーがミストCVDで～FLOSFIAが開発』 ■EE Times Japanの記事はこちら：『半導体素子の電極に応用可能：基板や形状を選ばない非真空ドライめっき技術』 ■FLOSFIAのプレスリリースはこちら：『FLOSFIA、環境負荷の小さな、非真空ドライめっき技術の開発に成功！』