事業紹介

FLOFIAでは、ミストCVD成膜技術を基礎技術として、『パワーデバイス事業』と『成膜ソリューション事業』を展開しています。

パワーデバイス事業

電力変換による損失を抑える
エネルギー問題解決の切り札

注目の物質、酸化ガリウムGa2O3の特性をうまく引き出し、変換損失を抑えた電源モジュールの実現に貢献してまいります。

世界最小のオン抵抗を有するSBDの試作に成功し、従来比最大9割の損失低減に結び付く技術を実現しました。

成膜ソリューション事業

ミストCVD法を用いた製品
の普及までを幅広くサポート

数千にもおよぶ成膜実績・ノウハウを活かし、1枚からのテスト成膜や成膜条件の各種改善、薄膜評価をサポートします。
基材・アプリケーションにあわせた研究開発用装置の開発・販売も行います。


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