会社概要

様々な智慧・叡智(sophia)が流れ(flow)込み 集まる会社、そしてこの智慧・叡智(sophia)を更に磨きあげて、社会に流し戻して(flow)人類の進歩に貢献する会社でありたい。
弊社では我々が目指すこのような姿を「FLOSFIA」と名付けました。このFLOSFIAを活用し、まさに川の流れのように地域・社会を潤す存在となり、人々がよりよい生き方ができるように貢献してまいります。

ご挨拶

 私たちは、グリーン且つクリーンな技術を用いてイノベーションを誘発し、社会に貢献する製品をつくりだしてまいります。
 イノベーションの歴史をたどると、新しい材料の登場が背景にあることはしばしばです。青色発光LEDでは窒化ガリウム、コンピューターではシリコン、超高燃費航空機ではカーボン。 新しい材料の事業化に成功した企業は高収益企業となり、業界のリーディングカンパニーになってきました。日本の大学は新しい材料を作ることを得意にしており、本当に多くの分野で世界最高の結果を出しています。しかしながら、その産業化のタイミングで、海外企業との競争に負けてしまう事例が頻発しています。FLOSFIAでは、大学が生み出した新規材料の応用開発に取り組み、誰よりも早く事業化することにチャレンジしています。
 もっとも力を入れているのが「水」から「半導体」を作るイノベーションです。ミストCVD法で作製した酸化ガリウム(Ga2O3)のパワーデバイス応用を目指しています。従来、ミストCVD法で作製した膜は半導体分野には応用が困難と考えられてきましたが、これまでに結晶の高品質化(不純物濃度の低減)や大口径化(4インチ化)、デバイス実証試作(600V以上の耐圧を有する超低オン抵抗SBD試作)に成功してまいりました。これらを実現するために、半導体に適したミストCVD法を開発し、この新規ミストCVD法をMISTEPITAXY®法と名付けました。今後、さらにFET(トランジスタ)の開発も加速し、より幅広い産業領域に、低損失・低コストな「パワー半導体」を応用することを目指してまいります。 
 加えて、ミストCVD法の新規応用展開にも取り組んでいます。SiO2やAl2O3などの応用展開をはじめ、立体物・ポーラス膜・有機材料を基材とした成膜、金属酸化物のみならず金属メッキ・有機膜の成膜など、さまざまな技術を組み合わせて事業化に取り組んでまいります。

 

株式会社FLOSFIA
代表取締役社長 人羅俊実代表取締役社長 人羅俊実

会社概要

名称株式会社FLOSFIA(フロスフィア)
英語名称FLOSFIA INC.
代表取締役社長人羅俊実
設立2011年3月31日
所在地京都府京都市西京区御陵大原1番36号 京大桂ベンチャープラザ北館
TEL/FAX075-963-5202 / 075-320-1712
共同研究京都大学・藤田静雄教授
資本金等

1,458,691,940円(資本準備金等含む)(2017年4月6日現在)

沿革

2010年11月IBTEC入賞(Intel+UC Berkeley Technology Entrepreneurship Challenge)
2011年3月会社設立(ROCA株式会社)
2012年6月代表取締役に人羅俊実就任。事業ドメインを半導体領域に変更
2013年4月経済産業省「新産業創出のための目利き・支援人材育成事業」採択
池田泉州銀行「第9回コンソーシアム研究開発助成金」採択
京大桂ベンチャープラザに本店移転
2013年5月中小企業庁「ものづくり中小企業・小規模事業者試作開発等支援補助金」採択
2013年9月京都市ベンチャー企業目利き委員会Aランク企業認定
2013年11月研究開発拠点を本店(京大桂ベンチャープラザ)に集約
京都新聞に当社紹介記事が掲載される
2013年12月MRS(米国材料学会)発表、酸化ガリウムテンプレートおよびSBD開発
2014年2月公益財団法人新技術開発財団 補助金採択
2014年6月近畿経済産業局「平成26年度戦略的基盤技術高度化支援事業」採択
近畿経済産業局が発行している「FLAGSHIPS2014」に当社紹介文が掲載される
2014年7月商号を「ROCA株式会社」から「株式会社FLOSFIA」に変更
2015年3月NEDO 平成26年度「エネルギー・環境新技術先導プログラム」採択
2015年6月DRC(国際学会)発表、酸化ガリウム自立結晶性フィルムおよびSBD試作
2015年7月「応用物理学会 先進パワー半導体分科会」でこれまでの研究成果等発表
2015年10月第三者割当増資により3億1,000万円を調達
2015年12月第三者割当増資により5,000万円を調達
2016年6月NEDO 平成28年度「戦略的省エネルギー技術革新プログラム」採択
2017年1月NEDO 平成28年度「エネルギー・環境新技術先導プログラム」採択
2017年3月第三者割当増資により7億5,000万円を調達
2017年4月

第三者割当増資により1億円を調達

アクセス

電車の場合

阪急電鉄京都線桂駅から
「桂駅西口」からバス利用で約15分→「桂イノベーションパーク前」にて下車
→バス停から徒歩1分(坂を下る)
京都市バス(西6系統:京大・桂キャンパス 桂坂中央行き)
京阪京都交通(20系統:桂坂中央行き)

JR桂川駅から
「JR桂川駅前」からバス利用で約20分→「桂イノベーションパーク前」にて下車
→バス停から徒歩1分(坂を下る)
ヤサカバス(6号系統:京大・桂キャンパス 桂坂中央行き)

JR京都駅から
「京都駅前」からバス利用で約35分→「桂イノベーションパーク前」にて下車
→バス停から徒歩1分(坂を下る) 京阪京都交通(21・21B系統:京大桂経由桂坂中央行き)

お車の場合

京都市内より車で約40分
国道1号線(五条通)から国道9号線を西へ
「千代原口」交差点よりさらに800m西へ
「三ノ宮」交差点から一つ目の信号を右折、桂御陵坂を上る


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