京都大学発
ミストCVD成膜技術
専門企業

ミストCVD成膜技術

母材を選ばずエコで低コストに
ナノレベル制御した成膜ができる

原材料は溶液で、固体/液体の金属化合物を溶媒に溶かしたものを用います。

ミストにしたのち、ガス化し、加熱してCVD反応をおこないます。
特に金属酸化膜の成膜を得意としています。真空ポンプを使わずにナノメートルの厚み制御も可能で、大面積の成膜も可能です。

パワーデバイス事業

電力変換による損失を抑える
エネルギー問題解決の切り札

注目の物質、酸化ガリウムGa2O3の特性をうまく引き出し、変換損失を抑えた電源モジュールの実現に貢献してまいります。

世界最小(当社調べ)のオン抵抗を有するSBDの試作に成功し、従来比最大9割の損失低減に結び付く技術を実現しました。

成膜ソリューション事業

ミストCVD法を用いた製品
の普及までを幅広くサポート

数千にもおよぶ成膜実績・ノウハウを活かし、1枚からのテスト成膜や成膜条件の各種改善、薄膜評価をサポートします。
基材・アプリケーションにあわせた研究開発用装置の開発・販売も行います。

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